702/705鋯旋轉靶

光學器件用鋯靶材，主要是指用于物理氣相沉積（PVD），特別是磁控濺射工藝，以在高性能光學元件表面沉積特定功能薄膜的高純鋯金屬或鋯化合物材料。在精密光學領域，鋯以其高折射率、卓... 【詳情】

鋯靶材，作為一種高性能的濺射靶材，正在半導體與微電子領域展現出日益重要的價值。憑借鋯金屬及其化合物（如二氧化鋯、氮化鋯、硼化鋯）獨特的熱穩定性、優良的化學惰性、合適的電... 【詳情】

集成電路晶體管制造用鋯靶是以高純度金屬鋯（純度≥99.9%）或鋯合金（如Zr-Hf、Zr-Nb合金）為材質?，通過濺射鍍膜工藝制備的薄膜沉積材料，具有高熔點（1852℃）、耐腐蝕、低熱中子吸收截面及優異化學穩定性?，需滿足高致密度、表面光滑無裂紋及尺寸精度（圓形/矩形規格）等標準?，主要用于MOSFET器件柵電極和金屬互連層，優化導電性、熱穩定性及集成密度?。... 【詳情】

產品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標準： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純度： ≥99.6%密度： 6.51g/cm3規格： 根據客戶需求定做 質量認證： ISO 9001:2008... 【詳情】

產品名稱： 鋯圓靶 、鋯濺射圓靶標準： ASTM B551，GB/T21183牌號： R60702，R60704，R60705，Zr1純度： ≥99.6%密度： 6.51g/cm3規格： 根據客戶需求定做 質量認證： ISO 9001:2008... 【詳情】

產品名稱：鋯靶、鋯靶塊牌號：702、705密度：6.49 g/cm3成型：真空熔煉物流包裝：快遞，真空木箱包裝具體尺寸：平面靶、多弧靶、幫定靶材、圓柱，根據客戶圖紙加工。用途：鋯靶主要用于工具鍍... 【詳情】